內(nèi)容簡(jiǎn)介 光刻膠清洗機(jī),等離子清洗機(jī),等離子除膠,等離子活化
小型真空等離子清洗機(jī) 等離子體清洗的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達(dá)到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過(guò)程:無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,可實(shí)現(xiàn)整體和局
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