內(nèi)容簡介 碳化硅清洗劑,碳化硅襯底清洗劑,碳化硅晶片清洗劑,碳化硅清洗劑廠家
碳化硅清洗劑SC181是我司專為碳化硅晶片超精密加工研發(fā)的水基清洗劑,可以徹底清除碳化硅晶片表面的微塵、細(xì)微顆粒物、有機(jī)物、金屬離子、金屬氧化物、殘留拋光液等污染物。 利用化學(xué)剝離的原理有效將鍵入在硅片表面的各種污染物去除,清洗劑中的活性物質(zhì)可以吸附在硅片表面,使其長期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)(>120h),而不像難清洗的化學(xué)吸附狀態(tài)轉(zhuǎn)化,并在表面形成保護(hù)層,防止顆粒的二次吸附,實(shí)現(xiàn)了把有害
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